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財(cái)政部 海關(guān)總署 國家稅務(wù)總局關(guān)于研發(fā)機(jī)構(gòu)采購設(shè)備稅收政策的通知【失效】

財(cái)稅[2009]115號(hào)

頒布時(shí)間:2009-10-10 11:47:19.000 發(fā)文單位:財(cái)政部 海關(guān)總署 國家稅務(wù)總局

正保會(huì)計(jì)網(wǎng)校編輯注:根據(jù)財(cái)稅[2011]88號(hào)文件規(guī)定,本文失效

各省、自治區(qū)、直轄市、計(jì)劃單列市財(cái)政廳(局)、國家稅務(wù)局,新疆生產(chǎn)建設(shè)兵團(tuán)財(cái)務(wù)局,海關(guān)總署廣東分署、各直屬海關(guān):

  為了鼓勵(lì)科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā),促進(jìn)科技進(jìn)步,經(jīng)國務(wù)院批準(zhǔn),對外資研發(fā)中心進(jìn)口科技開發(fā)用品免征進(jìn)口稅收,對內(nèi)外資研發(fā)機(jī)構(gòu)采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅?,F(xiàn)將有關(guān)事項(xiàng)具體明確如下:

  一、外資研發(fā)中心適用《科技開發(fā)用品免征進(jìn)口稅收暫行規(guī)定》(財(cái)政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局令第44號(hào))免征進(jìn)口稅收,根據(jù)其設(shè)立時(shí)間,應(yīng)分別滿足下列條件:

 ?。ㄒ唬?009年9月30日及其之前設(shè)立的外資研發(fā)中心,應(yīng)同時(shí)滿足下列條件:

  1.研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn):(1)對新設(shè)立不足兩年的外資研發(fā)中心,作為獨(dú)立法人的,其投資總額不低于500萬美元;作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的,其研發(fā)總投入不低于500萬美元;(2)對設(shè)立兩年及以上的外資研發(fā)中心,企業(yè)研發(fā)經(jīng)費(fèi)年支出額不低于l000萬元。

  2.專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于90人。

  3.設(shè)立以來累計(jì)購置的設(shè)備原值不低于1000萬元。

  (二)對2009年10月1日及其之后設(shè)立的外資研發(fā)中心,應(yīng)同時(shí)滿足下列條件:

  1.研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn):作為獨(dú)立法人的,其投資總額不低于800萬美元;作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的,其研發(fā)總投入不低于800萬美元。

  2.專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于150人。

  3.設(shè)立以來累計(jì)購置的設(shè)備原值不低于2000萬元。

  具體審核辦法由商務(wù)部會(huì)同財(cái)政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局另行制定。

  二、適用采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅政策的內(nèi)外資研發(fā)機(jī)構(gòu)包括:

 ?。ㄒ唬犊萍奸_發(fā)用品免征進(jìn)口稅收暫行規(guī)定》(財(cái)政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局令第44號(hào))規(guī)定的科學(xué)研究、技術(shù)開發(fā)機(jī)構(gòu)。

  (二)《科學(xué)研究和教學(xué)用品免征進(jìn)口稅收規(guī)定》(財(cái)政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局令第45號(hào))規(guī)定的科學(xué)研究機(jī)構(gòu)和學(xué)校。

 ?。ㄈ┓媳就ㄖ谝粭l規(guī)定條件的外資研發(fā)中心。

  具體退稅管理辦法由國家稅務(wù)總局會(huì)同財(cái)政部另行制定。

  三、本通知所述設(shè)備,是指本通知附件所列的為科學(xué)研究、教學(xué)和科技開發(fā)提供必要條件的實(shí)驗(yàn)設(shè)備、裝置和器械。 ‘

  四、本通知執(zhí)行期限為2009年7月1日至2010年12月31日。

  附件:科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備清單

  財(cái)政部 海關(guān)總署 國家稅務(wù)總局
二00九年十月十日

  附件:

科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備清單

  為科學(xué)研究、教學(xué)和科技開發(fā)提供必要條件的實(shí)驗(yàn)設(shè)備、裝置和器械(不包括中試設(shè)備),具體包括以下三類:

  一、實(shí)驗(yàn)環(huán)境方面

 ?。ㄒ唬┙虒W(xué)實(shí)驗(yàn)儀器及裝置;

 ?。ǘ┙虒W(xué)示教、演示儀器及裝置;

 ?。ㄈ┏瑑粼O(shè)備(如換氣、滅菌、純水、凈化設(shè)備等);

  (四)特殊實(shí)驗(yàn)環(huán)境設(shè)備(如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強(qiáng)腐蝕設(shè)備等);

  (五)特殊電源、光源(如電極、開關(guān)、線圈、各種光源等);

  (六)清洗循環(huán)設(shè)備;

  (七)恒溫設(shè)備(如水浴、恒溫箱、滅菌儀等);

 ?。ò耍┬⌒头鬯椤⒀心ブ苽湓O(shè)備。

  二、樣品制備設(shè)備和裝置

 ?。ㄒ唬┨胤N泵類(如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動(dòng)泵、蝸輪泵、干泵等);

 ?。ǘ┡囵B(yǎng)設(shè)備(如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等);

  (三)微量取樣設(shè)備(如移液管、取樣器、精密天平等);

  (四)分離、純化、濃縮設(shè)備(如離心機(jī)、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設(shè)備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等);

  (五)氣體、液體、固體混合設(shè)備(如旋渦混合器等);

 ?。┲茪庠O(shè)備、氣體壓縮設(shè)備;

 ?。ㄆ撸S弥茦釉O(shè)備(如切片機(jī)、壓片機(jī)、鍍膜機(jī)、減薄儀、拋光機(jī)等),實(shí)驗(yàn)用注射、擠出、造粒、膜壓設(shè)備;實(shí)驗(yàn)室樣品前處理設(shè)備;

 ?。ò耍?shí)驗(yàn)室專用小器具(如分配器、量具、循環(huán)器、清洗器、工具等)。

  三、實(shí)驗(yàn)室專用設(shè)備

  (一)特殊照相和攝影設(shè)備(如水下、高空、高溫、低溫等);

 ?。ǘ┛蒲酗w機(jī)、船舶用關(guān)鍵設(shè)備和部件;

 ?。ㄈ┨胤N數(shù)據(jù)記錄設(shè)備及材料(如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機(jī)、光盤機(jī)等);

 ?。ㄋ模┨厥怆娮硬考ㄈ珉娐钒?、特種晶體管、專用集成電路等);

  (五)材料科學(xué)專用設(shè)備(如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設(shè)備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴(kuò)散爐、濺射儀、離子刻蝕機(jī),材料實(shí)驗(yàn)機(jī)等),可靠性試驗(yàn)設(shè)備,微電子加工設(shè)備,通信模擬仿真設(shè)備,通信環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備;

 ?。┬⌒腿蹮捲O(shè)備(如真空、粉末、電渣等),特殊焊接設(shè)備;

  (七)小型染整、紡絲試驗(yàn)專用設(shè)備;

 ?。ò耍╇娚碓O(shè)備。

責(zé)任編輯:阿十
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