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【知識(shí)點(diǎn)】專利布局的含義
三個(gè)基本問題:
1.專利布局內(nèi)容:
研發(fā)項(xiàng)目創(chuàng)新成果中最具布局價(jià)值的發(fā)明創(chuàng)新成果所在;
需通過申請(qǐng)專利加以重點(diǎn)保護(hù)的主要技術(shù)方向和技術(shù)重點(diǎn);
采用何種類型的專利予以保護(hù);
專利布局的主要投入方向和重點(diǎn)。
2.專利布局地點(diǎn):
最必要布局專利的若干國家和地區(qū)(成本考量)。
綜合考慮:創(chuàng)新主體當(dāng)前及潛在關(guān)注的主要銷售市場、生產(chǎn)地以及產(chǎn)品的消費(fèi)市場等。
3.專利布局時(shí)機(jī):
選擇不同的時(shí)機(jī)申請(qǐng)、公開專利至關(guān)重要。
綜合考慮:不同技術(shù)發(fā)展階段、產(chǎn)品技術(shù)推出的戰(zhàn)略部署。
技術(shù)萌芽期——針對(duì)底層技術(shù)、基礎(chǔ)技術(shù)布局;
技術(shù)發(fā)展期——針對(duì)實(shí)現(xiàn)有關(guān)功能的應(yīng)用技術(shù)布局;
技術(shù)成熟期——針對(duì)相關(guān)技術(shù)的改進(jìn)完善和標(biāo)準(zhǔn)化布局;
技術(shù)衰退期——針對(duì)克服技術(shù)制約瓶頸的突破性技術(shù)或下一代技術(shù)布局。
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